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OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），Z大升溫速率為20oC/s 。采用PID方式進行溫度調節，可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，

OTF-1200X-HP-55是一款通過CE認證的開啟式管式爐，其爐管采用無縫鎳基合金管,此款設備專為高溫高壓實驗設計，Z高壓力高達20MPa，Z高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體。對于高壓制備新材料和作為小型熱等靜壓處理合金樣品，這是一款理想的高溫管式爐。

12升1700℃高溫氫氣爐是一款通過CE認證的高溫氫氣爐，此款儀器專門針對于材料在氫氣環境或惰性氣體環境進行燒結或是退火，其Z高溫度可高達1700℃。KSL-1700X-H2采用氧化鋁纖維作為爐膛材料（爐膛尺寸為8“x 8“x12“），以鉬絲作為加熱元件，爐體頂部密封板中嵌有冷卻水管，以保證儀器工作時的密封性能。對需在惰性氣體或還原性氣體環境下燒結的材料（如熒光材料，鈦合金等）。

OTF-1200X-HP-III-W是一款帶有石英窗口的高溫高壓爐，爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，可承受的Z高溫度為1100℃。兩端法蘭上都安裝有石英窗口，可允許各種波長的光通過整個爐管。所以，此款管式爐特別適合在高溫高壓的環境下進行光學氣體分析實驗。

OTF-1200X-VHP4開啟式立式爐，標配dia4”石英管真空密封，20T電動壓力機。是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想工具，在5噸壓力下可鍵合多層基片。爐子可以加熱到1100 oC并且30段程序控溫。帶水冷的法蘭可使真空度達到10-5Torr（用分子泵）。

OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高溫高壓管式爐，爐體擁有三個溫區。儀器中配有氣體控制柜，可使爐管內的氣壓在升降溫過程中保持恒定，特別是對于氧化物的處理，可使爐管內的氧分壓保持恒定。爐管采用高溫鎳基合金鋼制作，Z高可耐溫1100℃。此款高溫高壓爐特意設計為氧化物超導線和氧化物陶瓷進行熱處理。